實驗室用快速退火爐基于SolarisGUI的PID處理控制器，可以存儲程序，每個程序多可以支持100個設置步驟，并帶有USB2.0接口。包含與MicrosoftWindows操作系統兼容的SolarisGUI軟件。使用此軟件，可以通過鏈接到計算機輕松地實現程序編輯和數據記錄。
實驗室用快速退火爐可以滿足大學，研究實驗室和小規模生產的需求，它是高度可靠且具有成本效益的。處理腔室采用殼狀設計，可以完全進入底板，便于基板的裝卸，并可以對腔體進行實際清潔?？焖俚臄底諴ID溫度控制器可在整個溫度范圍內提供準確且可重復的熱控制。
1、處理室：使用不銹鋼冷室壁技術。
2、溫度范圍的標準配置：高1250°C。
3、高溫配置：高1450°C。
4、溫度控制標準配置：使用熱電偶和高溫計測量溫度。
5、真空和氣體：使用MFC多可處理5種處理氣體和一種清潔氣體。
6、計算機控制：完全PC計算機控制，每個公式100步，完整的數據記錄和處理歷史人機界面設計。
實驗室用快速退火爐快速熱處理技術（RTP）可用于硅和化合物半導體材料的離子注入，消除/激活雜質，硅化物形成，歐姆/肖特基接觸制備以及快速氧化/氮化的缺陷消除，消除膜應力，改善漆膜附著力等方面。該設備具有良好的長期工作穩定性，快速的溫度上升和下降以及緩慢的溫度上升和下降功能，因此還可以用于PVD/CVD工藝中各種半導體材料的熱處理。
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