真空快速退火爐儀器和真空快速退火爐應用領域

真空快速退火爐儀器和真空快速退火爐應用領域

真空快速退火爐儀器特點：

- 真空快速退火爐，有低真空型號(10-3 hPa)、高真空型號(10-6 hPa)；

- 可在不同氣氛環境下使用，如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等；

- 控制方式：SIMATIC, SPS人機界面控制，7英寸觸摸屏；

- 可存儲50個程序，每個程序最多分為50段控制；

- 全自動智能控制，包括溫度、時間、氣體流量、真空度、循環水均可自動設置；

- 優異的溫控均勻性，極佳的工藝重現性；

- 小尺寸臺式設計；

真空快速退火爐應用領域：

- 離子注入/接觸退火；

- 快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；

- 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環境下使用；

- SiAu, SiAl, SiMo合金化；

- 低介電材料；

- 晶體化，致密化；

- 太陽能電池片鍵合；

等等...