GaAs快速退火爐，GaAs快速退火爐知多少？GaAs快速退火爐該有怎樣的配置和特點嗎？今天瑞樂半導體科技有限公司小編為你整理分享GaAs快速退火爐，GaAs快速退火爐知多少？GaAs快速退火爐該有怎樣的配置和特點嗎？
GaAs快速退火爐使用方便，易于操作，加熱元件采用紅外燈管，加熱速度快，節省時間?；瑒臃ㄌm簡化了樣品的裝卸過程，操作方便，可快速獲得實驗結果，省去了重復的法蘭安裝過程，減少了爐管安裝造成的損壞。那么你知道它該有怎樣的配置和特點嗎？
GaAs快速退火爐適用于CVD工藝，例如碳化硅涂層，陶瓷基板電導率測試，ZnO納米結構的受控生長，陶瓷電容器（MLCC）氣氛燒結和其他實驗。此CVD系統配置：1200度開放式真空管式爐（可選單溫度區，雙溫度區）。多通道質量流量控制系統，真空系統（可以選擇中真空或高真空）。
1、控制電路采用模糊PID程序控制技術，具有溫度控制精度高，熱慣性低，溫度超調，性能可靠，操作簡單的特點。
2、氣路快速連接法蘭結構采用公司*的知識產權設計，提高了操作的便利性。
3、中真空系統具有自動控制真空度上限和下限的功能，高真空系統使用高壓耐沖擊分子泵。
GaAs用快速退火爐易于操作，加熱元件采用紅外燈管，加熱速度快，節省時間?；瑒臃ㄌm簡化了樣品的裝卸過程，操作方便。實驗結果可以很快獲得，并且省去了重復的方法，藍色的安裝過程減少了由于安裝引起的爐管損壞。
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